Effect of Substrate Temperature and Nitrogen Flow Rate on (Ti, Al) N Coating Properties
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摘要:
运用ＰＶＤ工艺在Ｍ２高速钢表面沉积了（ＴｉＡｌ）Ｎ涂层，用ＳＥＭ、ＴＥＭ和ＸＲＤ方法对涂层显微组织和结构进行了分析研究，并对涂层的性能进行测试。结果表明，涂层的显微硬度和耐磨性随涂镀时基体温度上升而提高，在ＴＳ＝４８０℃时涂镀效果较佳；也随涂镀时的氮流量有关系，当Ｎｆ＝１２ｍｌ．ｍｉｎ－１时，Ｈｖ可达２４００。
引用本文
王永康 程祥宇.基体温度和氮分压对（Ti, Al）N涂层性能的影响[J].稀有金属材料与工程,1994,(3):55~58.[Wang Yongkang, Cheng Xiangyu, Wang Weiming, Gu Xiaohong, Li Bingsheng. Effect of Substrate Temperature and Nitrogen Flow Rate on (Ti, Al) N Coating Properties[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1994,(3):55~58.]
DOI：[doi]
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