摘要:在100—650K内的不同温度下,对掺杂K—Al—Si(钾—铝—硅)的商业钨棒和钨丝(φ0.9、0.3,0.18mm)进行了开裂试验。新鲜的开裂面立即用AES(俄歇电子光谱仪)研究,随后用扫描电镜对其作形貌观察。主要结果如下:a)在常规试验中,钾会沿着开裂面展散开,若将样品保持在100K以下,可以避免这种展散;b)经一次和二次再结晶的钨丝,其开裂是沿着钾第二相较密集的区域发生的;c)在烧结棒和粗丝中,除有气泡外,也还存在准二维的钾第二相;d)开裂源于被氧化的晶界或被氧化的微裂纹;e)丝纵裂时,有时出现钾和