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高纯钨中杂质元素的化学光谱法测定
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O653.7

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Methods for the Determination of the Trace Impurities in High Purity Tungsten by Chemical Spectrometry
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    采用以一定比例的HNO3和HCl为介质,使钨沉淀成钨酸与杂质分离,然后用碳粉吸附杂质再进行光谱测定的方法,对高纯钨(包括金属钨、三氧化钨、钨酸、钨酸铵)中15个杂质元素Fe、Ni、Cu、Mn、Al、V、Cr、Co、Ca、Ms、Pb、Sn、Bi、Cd、Be进行了测定,取得了理想的结果,测定下限可达(0.1~0.5)×10(-6)。

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引用本文

余国华,陈觉.高纯钨中杂质元素的化学光谱法测定[J].稀有金属材料与工程,1994,(5).[Yu Guohua, Chen Jue. Methods for the Determination of the Trace Impurities in High Purity Tungsten by Chemical Spectrometry[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1994,(5).]
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