摘要:据 2 0 0 2年超导周刊报导 ,日本富士公司一个研究小组用 3段化学气相沉积技术 (CVD)在没织构的轧制银带上制做出具有 3× 10 4A/ cm2 (77K,0 T)临界电流密度的 11m长 YBCO涂层超导带。临界电流密度是用直流四引线方法测量的从头至尾整根超导带的 JC。主要工艺参数是 :沉积速度约 3m/ h,相当快 ,可以满足实际连续制做工艺的要求 ;沉积温度 80 0℃ ;总压力 5 0 0 Pa,氧分压 130 Pa～ 14 0 Pa。YBCO层的厚度约为 0 .35μm,在 YBCO层上还用磁控溅射沉积一层 3μm厚的银保护层。横截面用透射电子显微镜观测结果表明 ,在各沉积层之间没…