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U表面循环Ar^+轰击—磁控溅射离子镀Ti研究
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TG174.444

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Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated
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    用设计的循环Ar^ 轰击-磁控溅射离子镀法在U表面上镀Ti,并采用扫描电镜(SEM),X射线光电子能谱仪和湿热加速腐蚀实验。研究了其表面,剖面形貌,镀层的组成与结构,膜基界面特征,以及耐湿热腐蚀性能。结果表明,U上循环Ar^ 轰击-磁控溅射离子镀Ti层结晶致密,晶粒细化,镀层由表及里分别由TiO2/TiO/Ti构成,镀层厚度≥4μm时,其试样的耐湿热腐蚀性能较之金属U来讲有较大程度的提高。

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引用本文

鲜晓斌 刘柯钊 等. U表面循环Ar^+轰击—磁控溅射离子镀Ti研究[J].稀有金属材料与工程,2003,(1):67~69.[Xian Xiaobin, Liu Kezhao, Lu Xuechao, Zhang Yongbin. Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(1):67~69.]
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  • 最后修改日期:2002-06-13
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