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TbCo/Cr非晶垂直磁化膜的磁特性
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O484.43

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教育部博士基金项目(20010487021)


Preparation and Properties of TbCo/Cr Amorphous Films with Perpendicular Anisotropy
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    摘要:

    在 SPF-430H 溅射系统上采用不加偏压的射频磁控溅射法制备了 TbCo 非晶垂直磁化膜, 并就 Cr 底层对 TbCo 非晶垂直磁化膜磁性能的影响进行了研究。结果表明,Cr 底层的存在能够增强 TbCo 非晶垂直磁化膜的磁各向异性,并使得其矫顽力增加。分别采用 VTBH-1 型高感度振动样品磁强计和 MTL-1 磁转矩系统测量了 TbCo薄膜的磁滞回线和磁转矩曲线。结果发现,厚度为 120 nm,并带有 180 nm 厚度 Cr 底层的 Tb31C69 薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别高达 51.2×104 A/m 和 0.457 J/cm3;没有带 Cr 底层的同样厚度的 Tb31C69 薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别只有 35.2×104 A/m 和 0.324 J/cm3。Hitachi X-650 型扫描电镜的观测结果表明,带有 Cr 底层的TbCo 薄膜具有柱状结构,这一柱状结构导致了磁各向异性能的增强以及矫顽力的提高。

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引用本文

黄致新,李佐宜,但旭,晋芳,林更琪. TbCo/Cr非晶垂直磁化膜的磁特性[J].稀有金属材料与工程,2004,33(11):1157~1160.[Huang Zhixin, Li Zuoyi, Dan Xu, Jin Fang, Lin Gengqi. Preparation and Properties of TbCo/Cr Amorphous Films with Perpendicular Anisotropy[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(11):1157~1160.]
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  • 最后修改日期:2003-03-31
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