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磁控溅射制备Ti-Si-N纳米薄膜的摩擦磨损性能
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TG174.44

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国家自然科学基金项目(50271053,50371067),国家自然科学基金委重大国际合作项目(50420130033),科技部973重大基础研究计划项目(2004CB619302)以及教育部新世纪优秀人才支持计划项目(NCET-04-0934)


Tribological Characterization of Ti-Si-N Nano Films Prepared by Reactive Magnetic Sputtering
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    摘要:

    采用磁控溅射方法在1Cr18Ni9Ti不锈钢基体上沉积Ti-Si-N纳米薄膜。结果发现:随着Si含量增加,薄膜的晶粒尺寸逐渐变小,晶粒尺寸范围在3nm~20nm之间。薄膜的显微硬度相对于TiN有明显增加,最大硬度可达43.5GPa。Si元素的加入亦改善了膜基结合强度。同时发现,Ti-Si-N纳米薄膜的摩擦系数和比磨损率随着Si含量的增加先减小后增加,其高温摩擦系数明显低干常温,但比磨损率却有显著提高。

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引用本文

牛新平 王昕 马胜利 徐可为 刘维民.磁控溅射制备Ti-Si-N纳米薄膜的摩擦磨损性能[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):1882~1885.[Niu Xinping, Wang Xin, Ma Shengli, Xu Kewei, Liu Weimin. Tribological Characterization of Ti-Si-N Nano Films Prepared by Reactive Magnetic Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1882~1885.]
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  • 收稿日期:2004-02-09
  • 最后修改日期:2005-06-03
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