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坩埚石墨化度对SiC单晶生长过程的影响
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O613.71 O613.72

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Effect of Graphitization Degree of Crucible on SiC Single Crystal Growth Process
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    研究了用改进Lely法制备SiC单晶的过程中坩埚石墨化度对物质传输和晶体生长速度的影响。在不同温度下进行石墨化处理得到了实验所用的坩埚。用XRD方法定量测定了晶体生长前坩埚的石墨化度,并用SEM分析了晶体生长后坩埚内壁的反应情况。实验结果表明,石墨坩埚在SiC晶体生长过程中是一个非常重要的碳源提供者:当坩埚的石墨化程度较低时,晶体的生长速度快,生长速度由生长温度所控制;随着坩埚石墨化程度的提高,晶体生长速度减慢并由坩埚石墨化度所控制;当石墨化度进一步提高的时候,籽晶被碳化,晶体不能正常生长。

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刘军林 高积强 程基宽 杨建峰 乔冠军.坩埚石墨化度对SiC单晶生长过程的影响[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):1944~1947.[Liu Junlin, Gao Jiqiang, Cheng Jikuan, Yang Jianfeng, Qiao Guanjun. Effect of Graphitization Degree of Crucible on SiC Single Crystal Growth Process[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1944~1947.]
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  • 收稿日期:2005-03-14
  • 最后修改日期:2005-03-14
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