TG154.5
采用CVD（Chemical Vapor Deposition）法沉积的钨涂层有[100]／[111]／[110]择优取向。择优取向主要受气体组分、流动速度、温度等因素的影响。研究了钼基体上CVD钨涂层的表面形貌和织构、涂层界面的元素分布、涂层的抗热震性能及高温扩散性能。结果显示：钨涂层与基体钼有2μm左右的互扩散层且钼在钨中的扩散速度更高；涂层在通H2条件下，进行室温→1400℃→室温20次循环后涂层不脱落、界面没有明显变化，涂层结合力好；涂层界面上的杂质元素氧等影响涂层的结合性能。
杜继红 李争显 高广睿.钼基体上化学气相沉积钨功能涂层的研究[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):2013~2016.[Du Jihong, Li Zhengxian, Gao Guangrui. CVD Tungsten Function Coatings on Molybdenum Substrate[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):2013~2016.]DOI：[doi]