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不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究
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TG170.3

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中国工程物理研究院NSAF基金(10176005)资助


Properties of TiN Films on Uranium Surface by Arc Ion Plating under Different Bias Voltages
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    不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌。结果表明:所得薄膜为单一TiN结构,薄膜表面平整、致密,但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能。随偏压的上升,摩擦系数由0.421变为0.401。同时利用X射线光电子能谱分析仪(XPS)对湿热腐蚀20d后的样品进行了分析,并利用电化学极化实验在0.5μg/g CT溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能。结果表明:TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能。

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引用本文

刘天伟 鲜晓斌 武胜 董闯.不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究[J].稀有金属材料与工程,2006,35(9):1437~1440.[Liu Tianwei, Xian Xiaobin, Wu Sheng, Dong Chuang. Properties of TiN Films on Uranium Surface by Arc Ion Plating under Different Bias Voltages[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(9):1437~1440.]
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  • 收稿日期:2005-08-24
  • 最后修改日期:2005-08-24
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