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温度对AZ91D镁合金表面弧辉等离子沉积TiN薄膜的影响
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TG146.4

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山西省自然科学基金(20041065)


Effect of Temperature on the TiN Film Deposited on AZ91D Magnesium Alloy by Arc-Glow Depositing Technique
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    采用弧辉等离子沉积工艺在镁合金AZ91表面涂覆了TiN薄膜。研究了沉积温度对膜层的厚度、结合力及硬度的影响。用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和辉光放电光潜(GDS)分析了涂层的成分和微观结构。结果表明,随着控制温度的升高,膜层厚度呈缓慢增加的趋势,但温度过高或过低结合力明显下降,以160~180℃最佳。180℃时的硬度HK0.01最高,达14630MPa。

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引用本文

缪强,崔彩娥,潘俊德,张平则,段良辉,刘亚萍.温度对AZ91D镁合金表面弧辉等离子沉积TiN薄膜的影响[J].稀有金属材料与工程,2007,36(11):2036~2040.[. Effect of Temperature on the TiN Film Deposited on AZ91D Magnesium Alloy by Arc-Glow Depositing Technique[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(11):2036~2040.]
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  • 最后修改日期:2006-12-31
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