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钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究
中图分类号:

TG174.444

基金项目:

北京印刷学院北京市重点实验室(印刷包装材料与技术)开放课题基金;国家自然科学基金(30470486/C010515)


The Study of Pd Film Layer Deposited on Surface of Pure Titanium by Arc Ion Plating Technology
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    利用电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度试验机等分析手段,对采用焊接复合式靶材,在钛表面沉积出的钯膜层进行分析研究。结果表明:钯膜层具有电弧离子镀典型特征,膜层的厚度为1,2-2μm,膜层致密。提高膜层的沉积温度使膜层与基体之间生成Ti4Pd相。膜层的表面硬度约为2GPa,在膜层与基体之间由于生成了Ti4Pd相,硬度增加到2.8GPa。

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    引证文献
引用本文

李争显,张跃飞,王宝云,王少鹏,严鹏,徐重.钛表面电弧离子镀沉积钯膜层的研究[J].稀有金属材料与工程,2007,36(12):2152~2155.[. The Study of Pd Film Layer Deposited on Surface of Pure Titanium by Arc Ion Plating Technology[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(12):2152~2155.]
DOI:[doi]

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  • 最后修改日期:2007-09-05