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低压布里奇曼法CdZnTe晶体生长及其热应力模拟
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中图分类号:

TG146.4

基金项目:

国家自然科学基金项目(10175040);上海市科委重大项目(03DZl1006);上海市教委基金(02AK30)资助


Thermal Stress Simulation and CdZnTe Crystal Growth by Low Pressure Bridgman Method
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    摘要:

    采用有限元方法,对晶体结晶结束位置处的晶体内部热应力分布进行了数值模拟,结果表明:晶体在石英安瓿内壁附近,变径处以及头部尖端处的热应力较大,应力值约在10^8N/m^2数量级,晶体中部热应力分布较小且比较均匀,约为10^7N/m^2。为了防止晶体在生长过程中头部尖端处以及变径处的位错延伸至晶体内部,提出了在不同生长阶段采用不同下降速度,并且在晶体下降至变径处采用“回熔”操作的新工艺。实验结果表明:利用新工艺生长的晶体位错密度明显降低,约为2×10^2cm^-2,同时显著地提高了晶体的利用率。

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引用本文

刘洪涛 桑文斌 袁铮 闵嘉华 詹峰.低压布里奇曼法CdZnTe晶体生长及其热应力模拟[J].稀有金属材料与工程,2007,36(6):1016~1019.[Liu Hongtao, Sang Wenbin, Yuan Zheng, Min Jiahua, Zhan Feng. Thermal Stress Simulation and CdZnTe Crystal Growth by Low Pressure Bridgman Method[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(6):1016~1019.]
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  • 最后修改日期:2006-07-31
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