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利用可控In气氛下热处理工艺制备Cd0.9Zn0.1Te:In
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TN304

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Supported by National Natural Science Foundation of China (10575069) and the Key Subject Construction Project (Material Science) of Shanghai Science and Technology Committee (03DZ 11006)


Fabrication of Cd0.9Zn0.1Te:In by Thermal Annealing Technology under Controlled Indium Vapor
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    利用控制In气氛下的热处理工艺成功地制备了CdZnTe:In。不同In压下(Cd,Zn分压保持在平衡分压)的热处理实验结果表明:热处理后样品的电阻率可从6.75×10^5Ω·cm提高到10^8~10^1010Ω·cm;并且随着In压的增加,导电类型逐渐由p型转变为n型。热处理后样品的电阻率变化特征可以由In的扩散和施主缺陷InCd、受主缺陷VCd之间的补偿作用来很好地解释。利用扩散理论建立了CdZnTe:In的电阻率物理模型。利用热处理后样品的电阻率数据,计算了在873,973和1073K时In原子在CZT晶体中的有效扩散系数DIn,分别为3.455×10^-11,2.625×10^-10和5.17×10^-9cm^2/s。将扩散数据经过拟合后得到了DIn的表达式:1.35exp(-1.85eV/kT)cm^2/s(873~1073K)。

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引用本文

刘洪涛 桑文斌 李万万 闵嘉华 李刚.利用可控In气氛下热处理工艺制备Cd0.9Zn0.1Te:In[J].稀有金属材料与工程,2007,36(8):1373~1376.[Liu Hongtao, Sang Wenbin, Li Wanwan, Min Jiahua, Li Gang. Fabrication of Cd0.9Zn0.1Te:In by Thermal Annealing Technology under Controlled Indium Vapor[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(8):1373~1376.]
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  • 最后修改日期:2006-07-28
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