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微米厚U-Al薄片的扩散连接
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中国工程物理研究院,表面物理与化学重点实验室,表面物理与化学重点实验室,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院

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TG

基金项目:

国家重点基础研究发展计划“973”项目(2007CB613807)


Diffusion bonding of U-Al sheets with micrometers thick
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Affiliation:

China Academy of Engineering Physics,Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics

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    摘要:

    本文开展了不同温度、压力和时间条件下微米厚Al片和微米厚U片的真空热压扩散连接实验,并对界面层进行了显微结构分析、元素能谱分析和纳米压痕测试。实验获得了U-Al机械结合无扩散层的工艺参数:350 ℃/ 63 MPa/ 1 h。保温1 h条件下,U-Al扩散层均匀化的工艺参数为400 ℃/ 80 MPa,扩散均匀情况下扩散层成分主要是UAl2。

    Abstract:

    Diffusion bonding of micrometers thick U-Al sheets by hot pressing in vacuum was carried out under different temperatures, pressures and holding times. We have carried on the microscopic analysis, energy spectrum analysis and nanoindentation test to the bonding interface. The appropriate process parameters without diffusion layer were 350 ℃/ 63 MPa/ 1 h. Under the precondition of 1 h holding time, the process parameters for homogeneous diffusion layer were 400 ℃/ 80 MPa. The composition of homogeneous diffusion layer was mainly UAl2.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

廖益传,吕学超,张鹏程,任大鹏,郎定木.微米厚U-Al薄片的扩散连接[J].稀有金属材料与工程,2016,45(7):1898~1902.[liaoyichuan, lvxuechao, zhangpengcheng, rendapeng, langdingmu. Diffusion bonding of U-Al sheets with micrometers thick[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2016,45(7):1898~1902.]
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  • 收稿日期:2014-06-06
  • 最后修改日期:2014-09-09
  • 录用日期:2014-10-30
  • 在线发布日期: 2016-10-09
  • 出版日期: