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磁控溅射WCu抗菌薄膜的结构与性能
作者:
作者单位:

1.西安交通大学生命科学与技术学院;2.艾特材料有限公司,香港

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TG146.1, R318.08

基金项目:

广东省顺德市容桂区产学研合作项目(201701);广东省高效医疗器械产品工程技术研究中心项目(2018110100310005409);广东诚辉医疗科技股份有限公司科技特派员工作站项目(2018240100180010683)


Structure and Properties of Magnetron Sputtered WCu Antibacterial Films
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    摘要:

    采用磁控溅射技术在载玻片上制备了钨铜薄膜。结构分析表明,薄膜的沉积速率和铜含量随铜靶电流的增大而升高,晶粒尺寸和显微硬度随铜靶电流的增大而下降。钨铜薄膜形成了固溶体,在铜含量较高时也有铜颗粒析出。WCu薄膜具有较高的疏水性,薄膜润湿性、液滴尺寸和环境温湿度都影响水滴和水膜的干燥时间。平板计数和菌液喷雾抗菌实验表明,WCu薄膜对大肠杆菌具有良好的抗菌作用。WCu薄膜有望用于环境设施的抗微生物表面改性。

    Abstract:

    Tungsten-copper films were prepared on slide glass by magnetron sputtering. The structural analyses show that deposition rate and silver content increase, while grain size and microhardness of the films decreases with the copper target current. Solid solution is formed for the WCu films, and Cu particles are segregated at high Cu content. WCu films are highly hydrophobic, and film wettability, droplet size and ambient temperature/humidity affect the drying time of water droplet and water film. The antibacterial tests by plate counting and spraying of bacterial suspension show that WCu films have good antibacterial activity against E. coli. The WCu films are expected to be used in antimicrobial surface modification of environmental facilities.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王应杰,王丽君,宁攀,Shum P.-W.,付 涛.磁控溅射WCu抗菌薄膜的结构与性能[J].稀有金属材料与工程,2022,51(1):197~202.[Wang Yingjie, Wang Lijun, Ning Pan, Shum P.-W.,Fu Tao. Structure and Properties of Magnetron Sputtered WCu Antibacterial Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2022,51(1):197~202.]
DOI:10.12442/j. issn.1002-185X.20210026

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  • 收稿日期:2021-01-10
  • 最后修改日期:2021-04-30
  • 录用日期:2021-05-12
  • 在线发布日期: 2022-02-09
  • 出版日期: 2022-01-28