NbTi超导体的新进展——(Ⅱ)人工钉扎中心NbTi超导体
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TM263

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    在提高NbTi超导体临界电流密度方面,人们已做了大量的研究工作,如改善NbTi合金的均匀性、元素添加、复合体的设计及组装方式、复合线的加工及热处理等等,最终的目的是在超导体中形成密度高、大小均匀的纳米级有效磁通钉扎中心。这些工艺技术都是间接地通过调整外部条件有限地影响内在因素,最终提高临界电流密度Jc。怎样才能更直接、更有效地实现NbTi超导体钉扎结构的最佳化,人工引入钉扎中心技术得到了应用和发展。人工引入钉扎中心即在NbTi超导体中直接加入不同于基体的钉扎材料,经过加工形成有效的磁通钉扎中心(Artificial Pin…

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引用本文

. NbTi超导体的新进展——(Ⅱ)人工钉扎中心NbTi超导体[J].钛工业进展,2000,17(6):1-5.

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